● 金属离子杂质超标：光电半导体材料的物理性能的特殊性，对杂质的要求比较严格，金属离子数量限制在ppm~ppb级别。

● 贵金属回收：贵金属应用范围广，为不可再生资源，原料采购成本高。

● 污水中金属离子处理：水土资源的污染主要来源于污水排放不达标，仅通过常规的暴晒、沉淀等工艺达到要求的难度大。

公司已有100多种金属吸附剂产品可规模化生产；其表面官能团涵盖巯基、硫脲、盐酸盐、季铵盐、Polyamine等。（元素周期表中紫色部分为可吸附去除的金属）

部分产品系列靶向目标吸附参照图

● 合成制药中铂族金属元素（Pd,Pt,Rh,Ir,Ru）的去除：单个金属离子从初始含量200-300PPM降至1PPM以下。

● OLED中间体材料，半导体有机电子材料中混合金属离子的去除：Na,K,Ca,Mg,Al,Zn,Fe,Ni,W,等30种金属总金属含量从初始1-100PPM降至150PPB以下。

● 天然动植物提取物中砷铅铬铁元素的去除：As,Pb,Fe总金属从初始50PPM降至5PPM以下。

● 贵金属的回收：Pd,Pt,Rh,Au,Ru,Ir,单个金属离子从初始100PPM降至5PPM以下。

● 精细化学品中卤素，硫，磷的去除：Cl,S,P单个金属从初始50-600PPM降至5PPM以下。

某OLED中间体项目

OLED中间体金属杂质含量超标，金属杂质主要来源

1、由于原料供应商的问题，无法提供金属离子达到要求的原料，导致原料本身金属杂质含量超标。

2、合成过程中，反应设备及物料接触的管线微量金属杂质的溶出。

3、由于部分反应合成过程中需要金属钯催化剂，导致产品中钯离子含量超标。

目前产品杂质含量

铁离子含量为234ppm

钯离子含量为20ppm

终端客户对于产品中金属离子杂质的要求

铁离子含量＜10ppm

钯离子含量＜10ppm

在不同的金属吸附剂添加量的情况下，物料中金属离子杂质显著降低。同时考虑到经济效益，目前仅以达到客户交货要求的离子含量，事实上，经过筛选不同的金属吸附剂，产品中铁离子的含量可达到ppb级，同时钯含量可达到10ppb级。